誤區(qū)一：試驗完成后再申請專利
很多研發(fā)人員覺得，我的研發(fā)成果還在實驗階段，這是申請專利為時過早，等產(chǎn)品上市后再申請專利更合適。殊不知，這時已經(jīng)晚了，即使你僥幸獲得授權，專利也處在不穩(wěn)定狀態(tài)之中。
此時如果你發(fā)現(xiàn)有人侵權并提起訴訟，侵權人則會以專利申請之日技術已經(jīng)被公開為由進行抗辯。你不但打不嬴官司，而且以前為申請專利所花費的精力、時間、金錢統(tǒng)統(tǒng)付之東流。
專利申請的基礎不是已經(jīng)在市場上存在的產(chǎn)品，也不一定是已經(jīng)成型的產(chǎn)品。因此，只要有了切實可行的想法，就可以著手申請文件的撰寫了。
誤區(qū)二：產(chǎn)品專利申請后一勞永逸
有部分發(fā)明人認為申請了一項專利后，就可“高枕無憂”，從而忽視了后期的繼續(xù)研發(fā)工作，即使開發(fā)出了新產(chǎn)品或有了新改進，也不再申請專利。
但是，這種錯誤認識的后果不異于未申請專利，因為當他人對該產(chǎn)品有了改進并申請了專利，反過來就限制了原專利權人產(chǎn)品的更新?lián)Q代，這就會導致原專利權人不經(jīng)意間反而變成了侵權人。此時，原專利權人就喪失了自己的知識產(chǎn)權。
誤區(qū)三： 一項成果只能申請一類專利
有部分發(fā)明人認為一項技術成果一次只能申請一類專利，即只能申請發(fā)明專利或只能申請實用新型專利或者只能申請外觀設計專利。
并不是，我國專利法規(guī)定的專利類型有三類：發(fā)明專利、實用新型專利及外觀設計專利，一項產(chǎn)品發(fā)明可同時申請多種專利，技術方案也可以同時申請實用新型和發(fā)明專利。
實用新型專利批得快，可盡快獲得相應保護，通常需8個月左右時間；發(fā)明專利則通常需2～5年審查批準時間；從近兩年的審查情況看，新型專利通常8個月左右即可授權，發(fā)明專利則需2年半左右。
所以，對于一些重要的產(chǎn)品發(fā)明，若發(fā)明人只申請了發(fā)明專利，而此時他人“雙管齊下”，同時申請發(fā)明專利和實用新型專利，那么他將先獲得實用新型專利，擁有了產(chǎn)品的專利權。發(fā)明人若使用該產(chǎn)品，反而構成了侵權。
誤區(qū)四 ：有專利證書就是有效的專利權
在我國，國家知識產(chǎn)權局對實用新型和外觀設計專利不進行實質審查，即使在你申請之前已經(jīng)有人就相同的技術方案申請過非常類似的專利，你的申請仍可能會被批準。如果沒有人提出異議，你的專利權會維持下去。一旦有人對你的專利提出無效宣告，那么你的專利會幾乎百分之百地被無效掉，也就是說你并沒有取得有效的專利權。
就發(fā)明專利而言，雖然國家知識產(chǎn)權局對它進行過實質審查，但誰也不能保證發(fā)明專利審查部門對世界范圍內(nèi)所有相關的文獻資料都檢索過。
所以得到專利證書，并不代表你的專利是真正有效的專利，只是代表國家知識產(chǎn)權行政機關對該專利申請的批準。只有在你的專利有效期內(nèi)沒有人對你的專利提出無效宣告，或者有人提出無效宣告，但復審委員會經(jīng)過復審后維持了你的專利權，此時你的專利才是真正有效的專利。
誤區(qū)五 ：技術方面遮遮掩掩
很多單位的發(fā)明人提交的專利申請文件非常簡單，有的甚至只有幾句話，技術方案完全沒有交待清楚，這給專利代理人制作正式專利申請文件帶來很大困難。
要求發(fā)明人提供更多的技術方案時，他們會以技術保密為由回避，表明這些發(fā)明人沒有把握好保密與公開的度。他們只是一味要求保密，害怕多透露一點技術信息，而恰恰忽視了公開不充分的問題。
大量的案例表明，如果一件專利申請被審查員以技術方案公開不充分為由而發(fā)出審查意見通知書，則這件專利申請有98%的可能被駁回。
誤區(qū)六 ：先發(fā)論文再申請專利
有些發(fā)明人取得研究成果后急于發(fā)表文章或成果鑒定，而沒有想到先申請專利保護。因為發(fā)表文章或成果鑒定不可避免地要公開技術內(nèi)容，使專利申請失去新穎性而得不到保護。
在專利代理過程中，常常碰到極具市場前景的專利申請因過早發(fā)表學術文章而不得不放棄，非常可惜！
最后，各發(fā)明人看后一定收貨不少吧！下次申請專利不要再走彎路了喲！
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